北京邮电大学学报 ›› 2015, Vol. 38 ›› Issue (3): 126-129.doi: 10.13190/j.jbupt.2015.03.022
利用片上超材料构建单芯片太赫兹双频吸波器
杨曙辉1,2, 康劲1, 陈迎潮2
- 1. 北京信息科技大学 信息与通信工程学院, 北京 100101;
2. 南卡罗来纳大学 电气工程系, 哥伦比亚, 美国 SC29208
Fabricationona Single Chip Terahertz Dual-Band Absorber by Usingon-Chip Metamaterial Structure
YANG Shu-hui1,2, KANG Jin1, CHEN Ying-chao2
- 1. School of Telecommunication Engineering, Beijing Information Scienceand Technology University, Beijing 100101, China;
2. Department of Electrical Engineering, University of South Carolina, Columbia SC29208, USA
摘要:
利用65 nm互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺,设计了一种新的单芯片超材料结构太赫兹吸波器,面积约为0.60 mm×0.65 mm,包含75个吸波单元. 吸波单元图案采用CMOS工艺中顶层铜金属,厚度为3.2μm,设计为正八边形和正方形开口谐振环的组合结构;介质层由无掺杂硅玻璃、碳化硅、氮化硅等组成,厚度为9.02μm;介质层背面短线采用CMOS工艺中的第一层金属,厚度为0.2μm. 仿真结果表明,该吸波器在0.921THz、1.181THz 2个频率处达到最大吸收率,分别为 97.84%和 95.76%. 克服了采用砷化镓、薄膜工艺实现的太赫兹吸波器与CMOS工艺兼容问题,有利于在大规模集成电路中实现.
中图分类号: